SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)BS4-50C08-10W-550光束取樣板簡(jiǎn)介

發(fā)布時(shí)間：2023/11/30

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SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)BS4-50C08-10W-550光束取樣板

監(jiān)控激光的強(qiáng)度，觀察光學(xué)系統(tǒng)的部分光線時(shí)，把光束取樣板插入光路中，可以取出5%的入射光量到光路之外。

?反面鍍有防反射膜，可以避免反面的雜散光。
?有不使光束產(chǎn)生變形的平行平板型，和因反面反射產(chǎn)生鬼影或干涉的影響很少的楔型平板兩種類型。
?無(wú)鍍膜面的反射率隨波長(zhǎng)變化很小，可以從基板的折射率正確地算出。

信息	?承接制造產(chǎn)品目錄之外的尺寸或波長(zhǎng)的光學(xué)零件。請(qǐng)使用客戶問(wèn)詢單。 WEB參照/カタログコードW3802 ?要求保證反射波面型精度或透過(guò)波面精度時(shí)，請(qǐng)聯(lián)系我們。 ?楔型半反射鏡最厚的地方，印有指向入射表面的箭頭符號(hào)。 ?「波長(zhǎng)特性數(shù)據(jù)」（僅供參考，EXCEL檔案格式）請(qǐng)參考【這里】。
注意	?由于基板的折射率和厚度的作用，透過(guò)光的光路相對(duì)于入射光會(huì)平行移動(dòng)數(shù)mm。（楔型半反射鏡在平行移動(dòng)的同時(shí)光束大約偏角30分） ?用于45°之外的入射角后，透過(guò)率波長(zhǎng)特性可能會(huì)變化。（參照相對(duì)入射角度的反射率變化圖） ? 基板側(cè)面的箭頭符號(hào)指向沒(méi)有鍍膜的那一面（反射面）。 ?使用激光那樣的直線偏光的光源時(shí)，反射率隨偏光方向在0.9?9.6%范圍內(nèi)變化。（參照反射率波長(zhǎng)特性圖） ?反射面沾有污漬時(shí)，反射率可能會(huì)變化很大。 ?雖然可以用于紅外或紫外，但反面的防反射膜的作用可能得不到充分發(fā)揮。 ?入射光的相位差在透過(guò)光，反射光中不能保持不變。
分束比(反射：透過(guò))	5：95(P偏光和S偏光的平均值)
厚度 t	8mm
楔形角 W	1°±5′
鍍膜	正面　無(wú)鍍膜反面　可見譜區(qū)防反射膜
表面質(zhì)量	10−5
適用波長(zhǎng)	400～700nm
外徑 φD	φ50mm
基板面型精度	λ/10
入射角度	45°
有效直徑	外徑的90%
激光損傷閾值(參考值)	4J/cm2(脈沖寬4ns，重復(fù)頻率20Hz)

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